米当局は、ASMLのEUVシステムが輸出規制に違反して中国に到達した可能性を調査している一方、ASMLとオランダ政府は、そのような出荷は行われておらず、ライセンス規則は厳格に執行されているとしている。
ブルームバーグによると、米当局はASMLの極端紫外線（EUV）露光装置が輸出規制にもかかわらず中国に到達した可能性を調べており、ラトニック商務長官がASML幹部との会合でこの問題を取り上げたという。ASMLはこの主張を否定し、中国にEUV装置を出荷したことはなく、EUV装置向けに特別に設計された部品、モジュール、機器も一切出荷していないと述べた。オランダ政府はロイターに対し、規制対象の半導体製造装置、部品、技術に関するライセンス規則を厳格に執行していると説明した。この一件は、米国が最近、特定のAI半導体の対中輸出規制を一部緩和した一方で、先端半導体製造装置を巡る地政学的緊張が続いていることを浮き彫りにしている。