元基微、上海で8インチ2次元半導体試験生産ラインを始動

同スタートアップは、このラインがチップ製造の全工程を網羅し、EUV露光に頼らず2029年までに5nm相当のチップ実現を目指すとしている。輸出規制の対象となる装置に代わる選択肢を中国企業が模索する動きの一環である。

要約

信頼性検証中

用語解説

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