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ASML、2026年Q2売上高93億ユーロを計上し2026年見通しを430億-450億ユーロに引き上げ

ASML、2026年Q2売上高93億ユーロを計上し2026年見通しを430億-450億ユーロに引き上げ

オランダの半導体製造装置メーカーは市場予想を上回り、2026年見通しを引き上げたうえ、AI主導の需要を背景に、2026年のlow-NA EUVの生産能力を約65台とし、2027年にはさらに30%増強する計画を明らかにした。

ファクトチェック
ASMLの公式プレスリリース「2026年第2四半期の純売上高93億ユーロ、純利益29億ユーロを計上」は、2026年第2四半期の純売上高が93億ユーロ、純利益が29億ユーロであることに加え、2026年通期見通しを430億〜450億ユーロに引き上げたことを確認しており、その強さの要因をAI関連投資需要に明確に帰している。GlobeNewswire版でも同じ数値が報じられている。主張にある各具体的な数値（第2四半期売上高93億ユーロ、2026年見通し430億〜450億ユーロ、AI主導の需要）は、いずれも一次情報によって裏付けられている。
    参考: 12
要約

ASMLは2026年第2四半期の売上高が93億3000万ユーロ、純利益が29億2000万ユーロとなり、いずれもアナリスト予想を上回った。また、2026年の純売上高見通しを従来の360億-400億ユーロから430億-450億ユーロへ引き上げ、売上総利益率も54%-56%を見込むとした。AI主導の先端ロジックおよびメモリ半導体向け需要が、中国向け売上を巡る不透明感や輸出規制強化にもかかわらず、EUVを含む各種装置の受注を支えていると説明した。さらに、2026年のlow-NA EUVの生産能力は2025年の44台から約65台に拡大し、2027年には2026年比でlow-NA EUVと液浸DUVの生産能力を30%増強する計画であるとした。この増産計画には、イーロン・マスクがテキサス州で計画するTerafab半導体製造施設から見込まれる需要も織り込んでいるという。

用語解説
  • EUV: 最先端半導体の製造に用いられる極端紫外線露光システム。
  • low-NA EUV: 新しいHigh-NAシステムより開口数が低い、先端半導体製造向けの標準的な極端紫外線露光プラットフォーム。
  • immersion DUV: レンズとウエハーの間に液体を用いてチップのパターニング解像度を高める深紫外線露光技術。