中国支援企業が液浸DUV露光装置を少量生産開始、半導体自給へ前進

ロイターによると、無名に近い国有企業である上海アイシェンナ電子技術集団が、中国で独自開発された液浸DUV露光装置の量産化を主導している。これにより、これまで明らかにされていなかった製造企業が判明した。これらの装置は今年、SMIC、華虹半導体、長鑫存儲技術（CXMT）に納入される見通しで、The Informationは生産目標について、今年約5台、2027年に約20台と報じている。 ロイターが引用した企業登記資料によると、アイシェンナは2023年8月に登録資本金70億元（10億ドル）で設立された。上海電気控股と上海国際信託の子会社の支援を受けている。事情に詳しい関係者はロイターに対し、同社が露光装置スタートアップの余量晟と上海微電子装備のチームを取り込んだと述べた。いずれも中国の半導体自給推進に関与する組織である。企業記録と採用記録によると、アイシェンナと余量晟は上海の同じ住所を共有している。 新型装置はなお追加の試験が必要で、ASMLの競合製品には大きく後れを取っている。このため、オランダの供給企業に対する差し迫った商業上の脅威とはなっていない。それでも実用配備に成功すれば、西側諸国が輸出規制や外国製装置の保守制限を強化した場合、中国の半導体メーカーにとって露光装置の代替調達先となる。液浸DUVシステムは、ドライ方式より微細な回路パターンを形成でき、マルチパターニングによってより先端的な半導体の製造にも活用できるため、半導体製造の中核技術である。 今回の生産開始は、中国がASMLの最先端EUV装置を購入できない状況が続き、一部の先端DUV装置でもオランダの規制に直面する中で進められている。ロイターは昨年12月、中国がEUV試作機の構築に成功したとも報じたが、この技術の量産化にはなお数年を要する。