ASMLは主要半導体メーカーから大規模な発注を確保しており、2026年3月にはSKハイニックスからEUV（極端紫外線による半導体パターン形成）露光装置を約80億ドル受注したことが注目される。この受注は、ASMLの歴史上で開示された単一の量産設備購入として最大であり、2027年までの広帯域メモリーと先端DRAMの生産を対象とする。ASMLはEUV装置を製造する唯一の企業で、先端半導体の生産に不可欠な存在である。High-NA EUVシステムはさらに高い解像度を実現し、インテルは特定の先端ノードでの利用を開始している。SKハイニックスとサムスンも導入を進めている一方、TSMCは幅広い採用を先送りしている。ベルギーの研究機関imecは2026年3月、High-NA EUVシステムを4億ドルで購入した。世界で稼働する同システムは12台未満である。ASMLは2026年7月時点で、2026年通期の売上高見通しを430億〜450億ユーロに引き上げた。2025年末時点の受注残高は388億ユーロだった。同社は、光学機器、精密機械、特殊材料のサプライチェーン全体の需要を支えるため、EUVおよび深紫外線装置の年間生産能力を2027年と2028年にそれぞれ30％増やす計画である。