ASML否认受禁EUV光刻机流向中国,美方指控缺乏证据

美国官员正在调查一套ASML EUV系统是否违反出口管制流向中国,而ASML和荷兰政府表示并不存在此类出货,且许可规定得到严格执行。

摘要

据彭博社报道,美国官员正在调查阿斯麦(ASML)一台极紫外(EUV)光刻机是否可能在出口限制下仍流向中国,美国商务部长霍华德·卢特尼克曾在与ASML高管会晤时提出这一问题。ASML否认相关指控,称其从未向中国出口过EUV光刻机,也未出口任何专为EUV光刻机设计的部件、模块或设备。荷兰政府向路透社表示,其对受管制芯片制造设备、部件和技术的许可规定执行严格。此事凸显出围绕先进半导体设备持续存在的地缘政治紧张局势,尽管美国近期已放宽对部分出口至中国的AI芯片限制。

术语与概念
  • EUV lithography machine: 用于制造最先进半导体的极紫外芯片制造设备。
  • DUV systems: 深紫外光刻机,属于较早一代的芯片制造工具。
  • export controls: 政府对敏感技术跨境销售或转移施加的限制。