中资背景企业启动浸没式DUV光刻设备小批量生产,推进芯片自主化

中资背景企业启动浸没式DUV光刻设备小批量生产,推进芯片自主化

路透社确认,上海国资企业爱生纳是中国首批国产浸没式DUV系统的研发方。随着北京推动芯片自主可控,首批设备预计将于今年交付。

摘要

据路透社报道,鲜为人知的国有企业上海爱生纳电子科技集团正牵头推进国产浸没式DUV光刻机的量产工作;路透社确认,这家此前未被点名的企业正是相关设备背后的制造商。该系统预计将于今年交付给中芯国际、华虹半导体和长鑫存储,而The Information报道称,今年产量目标约为5台,2027年约为20台。 根据路透社援引的工商资料,爱生纳成立于2023年8月,注册资本为7 billion yuan ($1.0 billion),由上海电气控股和上海国际信托旗下子公司支持。知情人士向路透社表示,该公司整合了光刻初创企业屿量晟和上海微电子装备的团队,这两方均参与了中国半导体自主化推进。工商及招聘资料显示,爱生纳与屿量晟在上海共用同一地址。 这些新设备仍需进一步测试,且与ASML的同类产品相比仍有明显差距,这意味着其短期内尚不会对这家荷兰供应商构成直接商业威胁。即便如此,若西方政府进一步收紧出口管制或对外国设备的服务限制,成功部署将为中国芯片制造商提供光刻设备的替代来源。浸没式DUV系统是芯片制造的核心技术,因为其能比干式系统刻写更小的电路图形,并可通过多重图形化工艺制造更先进的芯片。 此次生产推进之际,中国仍无法购买ASML最先进的EUV系统,并面临荷兰对部分先进DUV设备的限制。路透社此前还于12月报道称,中国已造出一台EUV原型机,不过该技术距离量产仍需数年。

术语与概念
  • 浸没式DUV光刻: 一种半导体制造方法,利用深紫外光和一层水在晶圆上刻写更精细的电路图形。
  • 多重图形化: 一种通过重复进行光刻曝光,使芯片特征尺寸小于单次曝光所能实现水平的技术。
  • EUV系统: 用于制造全球最先进半导体的极紫外光刻设备。