SK海力士前员工因向中国泄露技术被判18个月监禁

首尔高等法院于2026年8月维持对一名前SK海力士员工的18个月监禁判决,该案涉及其在这家芯片制造商中国办公室任职期间,于2022年泄露机密CMOS图像传感器技术及其他商业机密。法院认定,他通过从公司内部服务器打印并拍摄机密材料,并将其中部分材料用于求职申请,违反了内部安全规定;最新说法称接收方为一家未披露名称的中国公司,而早前报道则指向包括华为旗下海思在内的中国企业。韩国将CMOS图像传感器技术视为受保护的工业技术,使该案具有国家安全层面的分量。二审法院维持下级法院判决不变,即认定其构成泄露商业秘密罪名成立,对另一项混合键合相关指控判其无罪,并因其承认指控且大部分材料已被追回而维持刑期不变。此案也被纳入韩国更广泛打击行动的背景之中;此前,另一名前SK海力士员工在一起与华为有关联的文件盗窃案件中的刑期,经二审后被加重至5年。

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